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家长意见怎么写最简单家长评语20字,家长意见怎么写最简单 家长评语20字以内 半导体突发!中国出手:停止采购!

  大家好(hǎo),来看一则突发消息。

  美光(guāng)公司在华销(xiāo)售的产品未(wèi)通(tōng)过网络(luò)安全审查

  据网信办消息,日前,网络安全审查办公室依法对(duì)美光公(gōng)司在华(huá)销(xiāo)售产(chǎn)品进行了网络安全审查。

家长意见怎么写最简单家长评语20字,家长意见怎么写最简单 家长评语20字以内  审查发现,美光公(gōng)司产(chǎn)品存在较严重网络安全(quán)问题隐患,对我国(guó)关键信息基础设施供应链造(zào)成(chéng)重大安全风险,影响(xiǎng)我国(guó)国家安全。为此,网(wǎng)络安全审查(chá)办公室(shì)依法(fǎ)作(zuò)出不予通过网络安全审查的结论。按照《网(wǎng)络安全法(fǎ)》等法律法规,我国内(nèi)关(guān)键信息基础设(shè)施的运(yùn)营者应停(tíng)止(zhǐ)采购(gòu)美光公司产(chǎn)品。

  此次对(duì)美光公司产品(pǐn)进行网络安(ān)全审查,目的是防范产品网络安(ān)全问题危害国家关键信息基础设施安全,是维护国家(jiā)安全的必(bì)要(yào)措施。中(zhōng)国(guó)坚定推进高(gāo)水平对外开放,只要遵守中国法律法规要求,欢迎各国企业、各类平台产品服(fú)务进入(rù)中国市场。

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  3月31日,中国网信(xìn)网发文称,为保障(zhàng)关键信息基础设(shè)施供(gōng)应链(liàn)安全,防范(fàn)产品问题隐患造成网(wǎng)络(luò)安(ān)全风险,维护国家安全(quán),依据(jù)《中华人民共和国(guó)国家安全(quán)法(fǎ)》《中华人民共和国网络(luò)安全(quán)法》,网络安全(quán)审查办(bàn)公室按(àn)照《网络(luò)安全审查办(bàn)法》,对美光公司(Micron)在(zài)华销售的产(chǎn)品实(shí)施网络安全审(shěn)查。

  半导体突发!中国出(chū)手:停止采购!

  美光是美国的(de)存储芯(xīn)片行(xíng)业龙头,也是全球存(cún)储芯(xīn)片(piàn)巨头之(zhī)一,2022年收入(rù)来自中国市场收(shōu)入从此前高峰57%降至(zhì)2022年约11%。根据市场咨询机构 Omdia(IHS Markit)统(tǒng)计,2021 年三星电(diàn)子、 铠侠、西部数据、SK 海力士、美光(guāng)、Solidigm 在全(quán)球 NAND Flash (闪存)市(shì)场份(fèn)额约(yuē)为 96.76%,三星电子、 SK 海力(lì)士、美光在全(quán)球 DRAM (内(nèi)存)市场(chǎng)份额约(yuē)为 94.35%。

  A股(gǔ)上市公司中,江波龙、佰维存储等公司披露(lù)家长意见怎么写最简单家长评语20字,家长意见怎么写最简单 家长评语20字以内过美(měi)光等(děng)国际存(cún)储厂商为公司供应商。

  美光在江波龙采购占比已经显著(zhù)下降,至少已经(jīng)不(bù)是主要(yào)大供应商(shāng)。

  公告显示, 2021年美光位列江波龙第一大存储晶圆供应(yīng)商,采购(gòu)约31亿元,占比33.52%;2022年,江波龙第(dì)一(yī)大、第二(èr)大和第三大(dà)供应商采购金额占比分别是(shì)26.28%、22.85%和5.76%。

  目前江波(bō)龙已经在(zài)存储产业链(liàn)上下游建立国内(nèi)外广泛合(hé)作(zuò)。2022年年报显(xiǎn)示,江波龙与三星、美光、西(xī)部数(shù)据等(děng)主要存(cún)储晶圆(yuán)原厂签署(shǔ)了长期合(hé)约,确(què)保(bǎo)存(cún)储晶(jīng)圆(yuán)供应(yīng)的稳(wěn)定性,巩固公司在下(xià)游市场的供(gōng)应优势,公司也与国内国产存储晶(jīng)圆原厂武汉(hàn)长(zhǎng)江存储、合肥(féi)长鑫保(bǎo)持(chí)良好的合作。

  有券商此前就分析,如果(guǒ)美光(guāng)在中国区销售受到限制(zhì),或将导致下游客户转而采购国外三星、 SK海力士,国内长江(jiāng)存储、长(zhǎng)鑫存储等竞对产品

  分析称(chēng),长存、长(zhǎng)鑫的上游设备厂或从中(zhōng)受益。存储器的生产已经演进到1Xnm、1Ynm甚(shèn)至1Znm的工(gōng)艺。另外NAND Flash现在已(yǐ)经进入3D NAND时代,2 维到3维的结构转变使刻蚀和薄膜成为最(zuì)关(guān)键、最大量(liàng)的加工设备(bèi)。3D NAND每层均需要经过薄膜沉积(jī)工艺步(bù)骤,同时刻(kè)蚀目前前沿(yán)要刻(kè)到 60:1的(de)深孔(kǒng),未来可能(néng)会更(gèng)深(shēn)的孔或者沟(gōu)槽(cáo),催生更多设备需求。据东京电子披露(lù),薄膜沉积(jī)设(shè)备及刻蚀占3D NAND产(chǎn)线(xiàn)资(zī)本开支(zhī)合计(jì)为75%。自长江存储被加入美(měi)国限制名单,设备国产化(huà)进程加(jiā)速,看好拓荆科技(薄膜沉积)等相关公(gōng)司份额(é)提升(shēng),以及存储(chǔ)业务占比较(jiào)高的华海清科(kē)(CMP)、盛美上(shàng)海(hǎi)(清洗(xǐ))等收入增长(zhǎng)。

 

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